Optical and structural characterisation of epitaxial nanoporous GaN grown by CVD

نویسندگان
چکیده

برای دانلود رایگان متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Structural and optical properties of GaN films grown on GaAs substrates by molecular beam epitaxy

GaN films are grown on [0 0 1] GaAs substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy using a three-step process that consists of a substrate nitridation, deposition of a low-temperature buffer layer, and a high-temperature overgrowth. X-ray diffraction and transmission electron microscopy indicate that this method promotes prismatic growth of c-oriented a-GaN. Photoluminescence studies show...

متن کامل

Structural and optical characterization of GaN grown on porous silicon substrate by MOVPE

GaN was grown on porous silicon (PS) substrates by Metalorganic Vapour Phase Epitaxy at temperature of 1050 8C. An additional AlN buffer layer is used between GaN and PS. The crystalline quality and surface morphology of GaN films were studied by X-ray diffraction and scanning electron microscope (SEM), respectively. Preferential growth of hexagonal GaN with h00.1i direction is observed and is ...

متن کامل

control of the optical properties of nanoparticles by laser fields

در این پایان نامه، درهمتنیدگی بین یک سیستم نقطه کوانتومی دوگانه(مولکول نقطه کوانتومی) و میدان مورد مطالعه قرار گرفته است. از آنتروپی ون نیومن به عنوان ابزاری برای بررسی درهمتنیدگی بین اتم و میدان استفاده شده و تاثیر پارامترهای مختلف، نظیر تونل زنی(که توسط تغییر ولتاژ ایجاد می شود)، شدت میدان و نسبت دو گسیل خودبخودی بر رفتار درجه درهمتنیدگی سیستم بررسی شده اشت.با تغییر هر یک از این پارامترها، در...

15 صفحه اول

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Nanotechnology

سال: 2017

ISSN: 0957-4484,1361-6528

DOI: 10.1088/1361-6528/aa7e9d